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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 基础研究 » 磁控溅射氧化鎳
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18335762710

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射氧化鎳 已有1人参与

磁控溅射NIO为什么反射功率下不去呢?都快疯了

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薄膜制备与特性 磁控溅射氧化物

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1楼 2017-03-10 21:21:40
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L-lutt

木虫 (小有名气)
反射功率大应该不能正常起辉吧。好好检查一下设备

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6楼2017-03-12 18:09:01
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强哥哥哥

新虫 (著名写手)
设备没调好吧。。。

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2楼2017-03-10 22:13:46
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18335762710

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 强哥哥哥 at 2017-03-10 22:13:46
设备没调好吧。。。

我们用的射频50W，2pa, 流量40，靶基距40（9cm），通氩气，磁性靶，一到16W的时候就开始有反射功率了，你看这有什么问题么？

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3楼2017-03-10 23:01:17
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
建议：1、检查一下线路，一定要仔细检查，尤其是匹配器和靶座之间的接线，线路问题可能导致反射功率过高；2、认真清理一下靶材的表面，表面异物也有一定影响；3、尝试着改变一下条件；4、检查一下靶位附近的接头；5、检查一下循环水，靶的温度过高可能会导致这种情况。
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4楼2017-03-11 09:30:05
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