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求助各位虫友了，情况是这样的我们的光刻机吸附不住掩膜版了。谢谢各位虫友。 已有1人参与
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情况是这样的，我们现在的光刻机，如果是用原厂的托盘（就是把光刻板吸附在哪个托盘上，具体我也不知道叫什么，我们都这么称呼这个东西），正常匹配的光刻板就能正常使用。 ...... 我们要做大一号的光刻板，对应我们也就做了，大一号的托盘，，但是现在找别人做的大一号托盘不能吸附住光刻板（据说吸附的也是大一号的光刻板，比原来的沉一些，我怀疑可能是光刻板沉了，需要比原来更高的真空度，但是泵不能提供那么大的真空度；其实我最重要的怀疑那个托盘的表面平整度不够，导致漏气，不能提供那么大的真空度（但是托盘的平整度是咱们说了不算的，还是先从自身找问题吧，） ..... 我还是继续描述我们的情况吧。（说实话具体的情况我也不清楚，当时试的时候不在现场，这个属于半路接手吧。。。。。。。。。。。。。。）听说是就是那个托盘吸附不住光刻板，但是不清楚怎么吸附不住光刻板，①是直接就不能能吸附住，没有吸附的这个过程；②还是有吸附这个过程，但是因为漏气（或者其他的原意）慢慢的往下掉导致的吸附不住。③我也不清楚吸附的是大一号的光刻板，④还是我们正常的光刻板，⑤还是大一号坏的光刻板（具体哪里坏了我也不知道，估计应该不影响使用，但是可能影响吸附，因为那个光刻板好像是在另一台光刻机上使用上的不用把光刻板吸附在托盘上，直接放在上面就行）。 写的好像有点啰嗦，我表达能力是不好的，。。。谢谢大家， 以上就是我了解的情况，和我自己的分析，希望各位虫友有知道，给我指导一下，谢谢了，大家也帮我分析分析，如果有遇到过这用情况的帮我指点指点，最好了，先谢谢大家了。 能不能是做这个托盘已经违反了物理，光刻板的重量（重力）大于这个托盘完全吸附时（所能提供的吸附力），他那个托盘中间是空的，（这个中空的筐更大了）上下压力不提供相等不提供向上的压力，吸附的力量只是靠大气的压力差（和抽真空的地方相比）把托盘从下压到上，吸附住托盘，（现在的情况是光刻板更沉了，重力更大了，相反抽真空的面积更小了，提供从下向上的压力更小了，所以吸附不住了。） |
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