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sunruiyan

金虫 (小有名气)

[求助] 求助各位专家,三甲氧基硅烷能偶联到二氧化硅表面同时保证硅上的氢存在吗? 已有1人参与

我想把三甲氧基硅氧烷偶联到二氧化硅表面,不知道偶联时候硅上的氢会反应吗?偶联完成后硅上氢能保留吗?需要什么样特殊条件保证偶联同时,保留硅上氢原子
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.包子

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
寒带森林: 金币+2, 应助奖励,欢迎常来精化版 2017-01-11 23:45:20
sunruiyan: 金币+5, ★★★很有帮助 2017-01-12 05:28:50
偶联剂与二氧化硅的反应机理是,烷氧基水解生成硅羟基,与二氧化硅表面的羟基发生缩合反应,达到改性的目的。这个过程的反应条件比较温和,一般不会对Si-H造成影响,但Si-H对碱性条件敏感,所以上述反应一般是在中性或弱酸性条件下进行。
        另外,如果你使用的是H-Si-(OCH3)3,此单体水解活性非常高,所以需要严格控制上述反应条件。

发自小木虫IOS客户端
2楼2017-01-11 08:20:48
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sunruiyan

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by .包子 at 2017-01-11 08:20:48
偶联剂与二氧化硅的反应机理是,烷氧基水解生成硅羟基,与二氧化硅表面的羟基发生缩合反应,达到改性的目的。这个过程的反应条件比较温和,一般不会对Si-H造成影响,但Si-H对碱性条件敏感,所以上述反应一般是在中性 ...

另外和二氧化硅表面的羟基偶联上之后,这个结构(si-o-si)稳定性怎么样?会很容易水解回去吗还是相对稳定的?热稳定性怎么样200度以下?
3楼2017-01-12 05:36:12
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.包子

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


寒带森林: 金币+1, 应助奖励,欢迎常来精化版 2017-01-15 00:19:07
引用回帖:
3楼: Originally posted by sunruiyan at 2017-01-12 05:36:12
另外和二氧化硅表面的羟基偶联上之后,这个结构(si-o-si)稳定性怎么样?会很容易水解回去吗还是相对稳定的?热稳定性怎么样200度以下?...

相对稳定,200度的高温是否有影响,需要评价两个方面:1偶联剂上基团的稳定性,2.si-o-si的稳定性,对于后者,200度一般不会破坏其结构

发自小木虫IOS客户端
4楼2017-01-14 08:16:17
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徐晓曼仔仔

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by .包子 at 2017-01-14 08:16:17
相对稳定,200度的高温是否有影响,需要评价两个方面:1偶联剂上基团的稳定性,2.si-o-si的稳定性,对于后者,200度一般不会破坏其结构
...

请问Si-O-Si的键在水溶液中稳定吗? 或者说硅烷化偶联这一步骤在水相中容易形成吗?

发自小木虫IOS客户端
5楼2017-03-16 20:54:50
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