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硅片的疏水处理，求帮助。。 已有2人参与
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我的处理步骤是这样的 ------------------------------------------ 1）丙酮超声10min后烘干 2）H2SO4和H2O2以7：3的比例混合，将硅片浸泡进去，80℃，10min 3）用去离子水冲洗干净后烘干 4）放入40%的HF酸中，5min -------------------------------------------- 这样处理之后的接触角时78°，达不到疏水的90°啊，是哪一步出问题了吗？求各位大神指教。。。 |
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