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qwerxjy铁虫 (初入文坛)
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[求助]
几个关于合金电位的问题
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本人小硕一枚，目前做6000系铝合金抗晶间腐蚀性能研究。 我的实验结果得出：峰值时效状态下，高Cu合金比低Cu合金的开路电位低，过剩Si合金比过剩Mg合金的开路电位低。 这个结论跟我看过的好多文献的规律相反，文献中都认为Cu和Si的加入会使合金的点蚀电位增大，有些文献中还说Cu和Si的加入会使合金的腐蚀电位增大。 我想知道： 1.点蚀电位，开路电位，和腐蚀电位有什么关系？在Tafel曲线上能得出点蚀电位和腐蚀电位，他们应该和开路电位的变化规律一样吗？ 2.如果开路电位代表的是合金整体的情况，是不是说有可能存在添加Cu使合金开路电位减小的可能呢？ 各位大神，求解答啊！！！急！！！ |
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