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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 等离子体刻蚀技术中的小疑惑求解
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jinwencao

木虫 (正式写手)
引用回帖:
7楼: Originally posted by Ghostridden at 2016-12-16 12:05:11
应该是的，非边界处电荷守恒。这个偏压和N层中的反型层好像有点像
...

你在做半导体刻蚀吗？还是在研制刻蚀机呢？

发自小木虫Android客户端
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11楼2016-12-16 18:05:20
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