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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 求助，磁控溅射镀膜出现了这种状况。如图
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puyiran

新虫 (初入文坛)

[交流] 求助，磁控溅射镀膜出现了这种状况。如图 已有4人参与

膜和基片没有粘附好，有气泡。钨薄膜，60W，0.3Pa

求助，磁控溅射镀膜出现了这种状况。如图
microMsg.1481270797117.jpg
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1楼 2016-12-09 20:56:00
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wxlz

银虫 (小有名气)
★
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基底没有处理干净，我之前也遇到过相同的情况。你沉积多厚的膜？
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2楼2016-12-23 16:19:31
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dezhuli

金虫 (小有名气)

博士
★
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沉积W就会有这样问题，对基底要求高

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3楼2016-12-23 18:12:42
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puyiran

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wxlz at 2016-12-23 16:19:31
基底没有处理干净，我之前也遇到过相同的情况。你沉积多厚的膜？

请问一下你这个问题解决了吗?我沉积100纳米的
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4楼2017-01-07 16:44:20
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rryy

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
请问磁控溅射镀w膜，基片需要加热么，加热到多少摄氏度呢

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5楼2017-03-22 09:23:34
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znop123

铁虫 (小有名气)
★
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你好。请问一下你这个钨的溅射条件是什么呀？本底真空抽到多少？溅射压强又是多大啊？氩气的几个9的纯度？请教一下，万谢！
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6楼2018-06-13 22:08:01
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