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求问SiO2纳米微晶制备FIB方法 已有1人参与
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我一个块状固体样品里含SiO2纳米微晶,想切FIB做透射电镜观察结晶形貌。试过几次发现纳米颗粒在离子束下非常容易非晶化,即便是2kv 。求助大神,哪种技术可以在切出FIB薄片的前提下,还能保持表面不被离子束烧坏,以用来做TEM?我有一个初步想法是,先切稍微厚点的FIB,然后用化学或者其他什么方法减薄,把FIB表面的非晶层去掉,露出内部 的纳米晶质颗粒。可是又不知道具体咋个操作,求问。 |
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。求助大神,哪种技术可以在切出FIB薄片的前提下,还能保持表面不被离子束烧坏,以用来做TEM?我有一个初步想法是,先切稍微厚点的FIB,然后用化学或者其他什么方法减薄,把FIB表面的非晶层去掉,露出内部
的纳米晶质颗粒。可是又不知道具体咋个操作,求问。
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