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huangyanjie金虫 (小有名气)
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[求助]
mpg-C3N4的合成中模板SiO2的去除 已有1人参与
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| 本人在合成mpg-C3N4的过程中，在去除硬模板SiO2时，一直除不净，我用的是HF溶液，在室温下搅拌，离心。但是一直除不干净，不知道是不是我洗涤时，用HF溶液时反应温度不对，还是洗涤的时间短和次数少造成的，请指导！另外根据我查的文献有用NaOH溶液在100度洗涤，不知道怎样在高温下配置NaOH溶液，配置时用什么容器配置？如果用玻璃烧杯，NaOH在高温下与玻璃反应是反应的。在洗涤时搅拌多长时间？谢谢！ |
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2楼2016-11-29 19:38:51
huangyanjie
金虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
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- 虫号: 1489229
- 注册: 2011-11-13
- 专业: 胶体与界面化学
3楼2016-11-30 08:56:40
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4楼2018-06-12 15:01:08