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huangyanjie金虫 (小有名气)
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mpg-C3N4的合成中模板SiO2的去除 已有1人参与
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| 本人在合成mpg-C3N4的过程中,在去除硬模板SiO2时,一直除不净,我用的是HF溶液,在室温下搅拌,离心。但是一直除不干净,不知道是不是我洗涤时,用HF溶液时反应温度不对,还是洗涤的时间短和次数少造成的,请指导!另外根据我查的文献有用NaOH溶液在100度洗涤,不知道怎样在高温下配置NaOH溶液,配置时用什么容器配置?如果用玻璃烧杯,NaOH在高温下与玻璃反应是反应的。在洗涤时搅拌多长时间?谢谢! |
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2楼2016-11-29 19:38:51
huangyanjie
金虫 (小有名气)
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3楼2016-11-30 08:56:40
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4楼2018-06-12 15:01:08









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