| 查看: 935 | 回复: 3 | ||
huangyanjie金虫 (小有名气)
|
[求助]
mpg-C3N4的合成中模板SiO2的去除 已有1人参与
|
| 本人在合成mpg-C3N4的过程中，在去除硬模板SiO2时，一直除不净，我用的是HF溶液，在室温下搅拌，离心。但是一直除不干净，不知道是不是我洗涤时，用HF溶液时反应温度不对，还是洗涤的时间短和次数少造成的，请指导！另外根据我查的文献有用NaOH溶液在100度洗涤，不知道怎样在高温下配置NaOH溶液，配置时用什么容器配置？如果用玻璃烧杯，NaOH在高温下与玻璃反应是反应的。在洗涤时搅拌多长时间？谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
拟解决的关键科学问题还要不要写
已经有8人回复
-
存款400万可以在学校里躺平吗
已经有28人回复
-
最失望的一年
已经有11人回复
-
求推荐英文EI期刊
已经有5人回复
-
请教限项目规定
已经有4人回复
-
国自然申请面上模板最新2026版出了吗？
已经有20人回复
-
26申博
已经有3人回复
-
基金委咋了？2026年的指南还没有出来？
已经有10人回复
-
基金申报
已经有6人回复
-
疑惑？
已经有5人回复
2楼2016-11-29 19:38:51
huangyanjie
金虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 1704.5
- 帖子: 190
- 在线: 75.2小时
- 虫号: 1489229
- 注册: 2011-11-13
- 专业: 胶体与界面化学
3楼2016-11-30 08:56:40
|
本帖内容被屏蔽 |
4楼2018-06-12 15:01:08