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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » mpg-C3N4的合成中模板SiO2的去除
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huangyanjie

金虫 (小有名气)

[求助] mpg-C3N4的合成中模板SiO2的去除 已有1人参与

本人在合成mpg-C3N4的过程中，在去除硬模板SiO2时，一直除不净，我用的是HF溶液，在室温下搅拌，离心。但是一直除不干净，不知道是不是我洗涤时，用HF溶液时反应温度不对，还是洗涤的时间短和次数少造成的，请指导！另外根据我查的文献有用NaOH溶液在100度洗涤，不知道怎样在高温下配置NaOH溶液，配置时用什么容器配置？如果用玻璃烧杯，NaOH在高温下与玻璃反应是反应的。在洗涤时搅拌多长时间？谢谢！
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1楼 2016-11-29 16:30:12
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下一站，守候

新虫 (小有名气)
请问你的硬模板是怎么弄的啊

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2楼2016-11-29 19:38:51
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huangyanjie

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 下一站，守候 at 2016-11-29 19:38:51
请问你的硬模板是怎么弄的啊

将40%的SiO2溶液直接加入到单氰胺中，用磁子搅拌1h,然后放入到60度的水浴中搅拌
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3楼2016-11-30 08:56:40
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红旗剑客

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
4楼2018-06-12 15:01:08
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