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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 计算模拟区 » 计算模拟 » 磁控溅射工艺对晶格参数的影响多大
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xsw1DQK3y491

禁虫 (初入文坛)
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1楼 2016-11-29 11:54:53
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xsw1DQK3y491

禁虫 (初入文坛)
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8楼2016-11-29 19:29:47
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Friend007

银虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
磁控溅射，工艺参数对薄膜影响最大。如基片温度高时，形成薄膜晶粒 更好些，温度低时非晶更明显。但是一般情况下都是非晶的。

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9楼2016-11-30 07:18:31
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xsw1DQK3y491

禁虫 (初入文坛)
本帖内容被屏蔽
10楼2016-11-30 08:27:33
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Friend007

银虫 (知名作家)
引用回帖:
10楼: Originally posted by xsw1DQK3y491 at 2016-11-30 08:27:33
那对晶格参数的影响呢
...

不好意 不了解

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11楼2016-11-30 20:49:50
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time882楼
2016-11-29 11:59  
xsw1DQK3y491(金币+2): 谢谢参与
多啦C梦06013楼
2016-11-29 12:15  
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三八洲4楼
2016-11-29 12:17  
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超级老快5楼
2016-11-29 12:18  
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多啦A梦28336楼
2016-11-29 12:29  
xsw1DQK3y491(金币+2): 谢谢参与
雾霾天20137楼
2016-11-29 12:35  
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