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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 请教一下磁控溅射镀CoFeB薄膜
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sun丶lei

新虫 (小有名气)

[求助] 请教一下磁控溅射镀CoFeB薄膜 已有1人参与

我看文章中一般能在0.5pa左右镀膜，但是我在4pa左右起辉之后，直流溅射镀膜，真空度一高腔室里面辉光就没了，而且直流电压电流不稳定，加到0.4A就上不去了～请教下大家是什么原因

@yswyx 发自小木虫IOS客户端
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1楼 2016-11-24 13:46:16
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sun丶lei

新虫 (小有名气)
送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by Friend007 at 2016-11-24 19:29:26
全是铁磁性材料，需要专门的强磁靶，普通的磁控阴极靶，性能有限 不容易起辉。

谢谢

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3楼2016-11-28 09:47:28
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
全是铁磁性材料，需要专门的强磁靶，普通的磁控阴极靶，性能有限 不容易起辉。

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sun丶lei
2楼2016-11-24 19:29:26
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sun丶lei

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Friend007 at 2016-11-24 19:29:26
全是铁磁性材料，需要专门的强磁靶，普通的磁控阴极靶，性能有限 不容易起辉。

再问一下、所谓的强磁靶是什么意思？是在CoFoB的靶材下面放一个强磁性的背靶吗？我平时是放的一个Cu靶

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4楼2016-11-28 09:55:57
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Friend007

银虫 (知名作家)
引用回帖:
4楼: Originally posted by sun丶lei at 2016-11-28 09:55:57
再问一下、所谓的强磁靶是什么意思？是在CoFoB的靶材下面放一个强磁性的背靶吗？我平时是放的一个Cu靶
...

强磁靶，专门用来溅射铁磁性材料，内部磁场相对一把的溅射靶要强很多。

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5楼2016-11-28 18:37:17
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