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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 玻璃材料 » 请问硅片用氢氟酸处理后如何变成亲水界面？
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462681878

金虫 (小有名气)

[求助] 请问硅片用氢氟酸处理后如何变成亲水界面？

如题，用氢氟酸去掉硅表面的二氧化硅之后此时的界面应该是疏水的，因为要在上面旋涂东西，需要亲水界面，请问如何变成亲水的呢？

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1楼 2016-11-24 09:46:29
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
重新氧化啊 找个炉子丢里面1000℃烧一下就好

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2楼2016-11-24 15:04:49
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462681878

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2016-11-24 15:04:49
重新氧化啊 找个炉子丢里面1000℃烧一下就好

您好，我是想在新鲜的的硅片上去旋涂，没有二氧化硅的表面，请问用氧plasma可以吗

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3楼2016-11-24 15:23:13
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
没试过。按理说和原生氧化层是一样的

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4楼2016-11-24 15:31:19
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Job0325

银虫 (初入文坛)
做晶硅太阳能电池也是类似要求，用的臭氧，很快，熏一下就好了，

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5楼2016-11-28 07:22:05
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462681878

金虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by Job0325 at 2016-11-28 07:22:05
做晶硅太阳能电池也是类似要求，用的臭氧，很快，熏一下就好了，

哦哦 谢谢哈 我这没有臭氧 只有氧plasma

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6楼2016-11-29 10:57:18
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zqxfcg

金虫 (正式写手)
请问你是用多长时间，多大浓度的HF酸进行处理的呢？我打算刻蚀300nm厚的SiO2 层
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静水流深
7楼2017-04-02 22:06:57
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