[交流] 微弧氧化制备工业薄膜的新工艺 已有1人参与

微弧氧化处理工艺简单，无污染，处理后铝、镁、钛合金表面形成的陶瓷层具有高硬度、耐磨、附着力强的特点，近年来得到快速的发展， 但微弧氧化目前仅仅作为表面处理工艺。而其优异的物理、电性能特性赋予其制备各种新材料的性能，目前国内就有： 微弧氧化铁电薄膜 微弧氧化制备太阳能掺杂膜/减反射膜 微弧氧化光催化膜 微弧氧化散热绝缘膜 等相关论文和发明专利 。但由于微弧氧化电流电压高，通过式、卷对卷设备造价昂贵，目前国内针对以上的新材料制备还停留在实验室阶段，制备 材料也是选用0.1mm以上薄膜，不具备实际用途。从而也限制了微弧氧化技术的广泛应用。     针对以上问题，恒核科技采用自制高精度、双脉冲电源设备和高柔性配方，制备出超薄铝膜、钛膜（已用于高音喇叭振膜），为大规模工业化生 产奠定了基础。 工艺流程： 1. 制品表面清洗 2.微弧氧化处理，工艺：双脉冲，电流0.5-2A/DM,占空比5-8%；可采用喷雾式阴极进行卷对卷处理（不影响背面），也可采用通过式电解。 3.热水封闭 4.收卷（因采用高柔性磷酸系配方，收卷后不裂不爆）。 规格参数： 1.硬度：HV400-800 2.膜厚：3-8um 3.绝缘性：耐击穿电压480V 4.结合力>30MPA 5.高抗折弯性 欢迎各科研单位和企业搞微弧氧化的工程师、老师交流研究，共同推进微弧氧化产业化 a41a200822bd50ac 拷贝.jpg 喇叭.jpg

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