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chinazxyu

木虫 (小有名气)

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专业: 半导体晶体与薄膜材料

[求助] 有关ZnO薄膜做UV-Vis测试，计算禁带宽度的问题已有1人参与

本人，通过薄膜工艺在氧化铝陶瓷基板上沉积了ZnO薄膜，现在想通过UV-Vis测试获得这些氧化锌薄膜的禁带宽度。需要加一说明的情况：
1. ZnO膜层很薄，目前实验室的条件，没有什么好的办法把它和基体分开；2. 后期的性能测试需要用Al2O3基板，所以如果换成玻璃做基板完成测试，并不理想。

存在以下几点疑惑：
1. ZnO沉积在A2O3基板上，是否还可以做吸收率或者反射率分析来求解禁带宽度，数值是否有意义？
2. 因为我的ZnO薄膜的厚度可能从几微米到10微米左右，那么如果涂层厚度有差别，比如5微米，10微米，是不是会影响光学测试结果，进而影响禁带宽度计算？
还请虫友不吝赐教！提前谢过各位！！

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为天地立心，为生民立命，为往圣继绝学，为万世开太平。

1楼 2016-11-04 03:14:03

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chinazxyu

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引用回帖:

9楼: Originally posted by gdfollow at 2016-11-07 15:57:25
都可以，吸收，反射，透射，都可以推出禁带宽度，具体测试的话还要看仪器的光路以及积分球的情况，直接测也可以，但是不是层状生长的话会有正反向斯托克效应造成实测值和吸收/反射/透射的偏差，一般会是零点几个电 ...

零点几个电子伏不是很大么，有些做掺杂的，他不过也就可以把禁带宽度变窄零点几个电子伏