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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 玻璃材料 » 如何利用XPS结果计算氮化硅表面氧化层厚度
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lianpennzt

银虫 (初入文坛)

[求助] 如何利用XPS结果计算氮化硅表面氧化层厚度 已有1人参与

PETER GREIL  在 Oxygen distribution in silicon nitride powders中介绍了一种，利用XPS结果计算氮化硅表面氧化层厚度的方法，但我一直看不明白，不知道是怎么算的，还望有大神出来指教一下。
公式截图和论文都在附件。如何利用XPS结果计算氮化硅表面氧化层厚度
1.PNG
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  • 附件 1 : 8Oxygen_distribution_in_silicon_nitride_powders-44.pdf
    • 2016-10-11 20:42:23, 443.08 K

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1楼 2016-10-11 20:44:52
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guxue

专家顾问 (知名作家)

学习使人进步

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
直接将测试出来的数据带进去就行了。关键是m要搞清楚。
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青出于蓝而胜于蓝
2楼2016-10-12 10:26:07
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lianpennzt

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by guxue at 2016-10-12 10:26:07
直接将测试出来的数据带进去就行了。关键是m要搞清楚。

m是等于1.2nm，SiO2中的O1s和氮化硅中N1s的理论峰强不知道上哪儿找。还有那个1.03的比值是什么意思？难道还可以直接带进去算？
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3楼2016-10-12 10:47:45
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