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电镀copper pillar截面图晶界腐蚀液求助
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| 做了一个电镀copper pillar的截面图（200微米宽，200微米高），在PVD纯铜的种子层上电镀的纯铜，抛光之后采用了三氯化铁的配方腐蚀液，双氧水的配方腐蚀液和过硫酸铵的配方腐蚀液，都没有看到预想中的晶界，请问各位达人，有没有做过这方面的电镀，使用的是什么配方的腐蚀液可以看到明显的晶界？谢谢！ |
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