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543418208金虫 (正式写手)
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[求助]
求助XPS表征中，用Ar刻蚀导致金属特征峰出现较大偏移的原因？
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想请问一下关于困扰我很久的关于XPS问题。 有两种催化剂A和AB，我们想要通过对比两种催化剂XPS图谱中金属A特征峰的偏移来说明是否存在B传递电子给A的作用，文献中报道过如果AB中金属A的特征峰与A催化剂相比往低偏移，则认为AB催化剂中存在B传递电子给A。不知道这种判断方法是否合理？还有就是偏移多少才不能算是测试误差导致的呢？ 我想要通过文献中报道的此类方法来说明我合成的催化剂C和CD是否有类似的作用存在。不过我发现，未用Ar刻蚀之前，C和CD基本上可以判定没有偏移，因为最多偏移量为0.05eV,我觉得可以忽略不计。但是刻蚀之后出现了较大的偏移，达到0.8eV。想请问一下这是什么原因导致的？是否正常？这种情况下是不是就不能用文献中的方法来判断催化剂中传递电子的作用了？ 还有就是这种情况下，我应该采用刻蚀前的数据来判断还是刻蚀后的数据来判断呢？ 上一张文献中用来说明的图！供大家参考一下！  1.jpg |
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 薄膜材料和器件表征 |
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