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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 求助XPS表征中，用Ar刻蚀导致金属特征峰出现较大偏移的原因？
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543418208

金虫 (正式写手)

[求助] 求助XPS表征中，用Ar刻蚀导致金属特征峰出现较大偏移的原因？

想请问一下关于困扰我很久的关于XPS问题。
    有两种催化剂A和AB，我们想要通过对比两种催化剂XPS图谱中金属A特征峰的偏移来说明是否存在B传递电子给A的作用，文献中报道过如果AB中金属A的特征峰与A催化剂相比往低偏移，则认为AB催化剂中存在B传递电子给A。不知道这种判断方法是否合理？还有就是偏移多少才不能算是测试误差导致的呢？
    我想要通过文献中报道的此类方法来说明我合成的催化剂C和CD是否有类似的作用存在。不过我发现，未用Ar刻蚀之前，C和CD基本上可以判定没有偏移，因为最多偏移量为0.05eV,我觉得可以忽略不计。但是刻蚀之后出现了较大的偏移，达到0.8eV。想请问一下这是什么原因导致的？是否正常？这种情况下是不是就不能用文献中的方法来判断催化剂中传递电子的作用了？
    还有就是这种情况下，我应该采用刻蚀前的数据来判断还是刻蚀后的数据来判断呢？
    上一张文献中用来说明的图！供大家参考一下！

求助XPS表征中，用Ar刻蚀导致金属特征峰出现较大偏移的原因？
1.jpg
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选择了就坚持下去，再难也不要放弃！
1楼 2016-09-23 22:26:55
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543418208

金虫 (正式写手)
自顶求助！
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选择了就坚持下去，再难也不要放弃！
2楼2016-09-24 09:00:57
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287164452

禁虫 (正式写手)
本帖内容被屏蔽
3楼2016-09-24 23:02:02
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543418208

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 287164452 at 2016-09-24 23:02:02
刻蚀会引起过渡金属还原，以及你的数据是否是校准过的，刻蚀会导致表面核电不均匀，数据整体往低偏移

校准过了，双金属催化剂刻蚀过后往两个方向偏移，不一致。不知道是不是刻蚀导致表面元素被还原的原因。
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选择了就坚持下去，再难也不要放弃！
4楼2016-09-25 10:04:43
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