4楼: Originally posted by 刘晓F at 2016-09-18 18:03:45
恩恩，有反应的话溶液是乳白色的，大概1小时冷却后还没有出现白色沉淀。
我在想滴加TEOS的速度是不是对出来形成的影响比较大，还是搅拌的温度？？
另外，去除模板剂后，介孔二氧化硅如何分散呢？？...

23楼: Originally posted by zlm207028 at 2016-09-23 00:18:49
要缓慢加入硅源
...

20楼: Originally posted by qverfg at 2016-09-22 14:46:16
个人感觉温度太高了，TEOS最适宜的水解温度应该在于35-40℃，这样的高温度，很容易出现微米级的介孔二氧化硅，同时这种浓度CTAB是可以形成胶束的，达到了临界胶束浓度，就是感觉TEOS的量太少了，增长水浴时间吧

25楼: Originally posted by 刘晓F at 2016-09-23 11:33:34
为何高温度就容易出现微米级的介孔二氧化硅呢？能解释下吗？或者有无 推荐的文献或资料？？...

26楼: Originally posted by 竹纸扇丶 at 2016-09-28 16:06:37
您好，我也在做这个介孔硅球，一直做不出来，我能就我的问题请教一下么
（1）在包覆TEOS的过程中需要加速搅拌？
（2）TEOS需要缓慢加入，加入后，溶液变成乳白色，但是静置一段时间后，会有白色的沉淀出现，这个 ...

7楼: Originally posted by sqzhao at 2016-09-19 09:02:35
我们专业做介孔氧化硅的，当然做出来啦，其实这个比较好合成的...

7楼: Originally posted by sqzhao at 2016-09-19 09:02:35
我们专业做介孔氧化硅的，当然做出来啦，其实这个比较好合成的...

29楼: Originally posted by 依依然然 at 2016-10-08 16:20:18
亲，你们是专业合成的？你们的产品卖么？...