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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 二氧化硅镀膜工艺，哪种工艺致密性好？
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wj0702114081

金虫 (正式写手)

学神的奴隶

[求助] 二氧化硅镀膜工艺，哪种工艺致密性好？ 已有1人参与

不能用热氧化，因为衬底有硅层。
之前用过ICP-CVD，但是氢氟酸腐蚀之后有颗粒感，图形不光滑。
有其他更好的工艺吗?要致密性好一些的。用来做结构，要腐蚀后边缘光滑。
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1楼 2016-08-16 10:05:46
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
毫无疑问是热氧。没明白什么叫衬底有硅层？是硅片？如果是硅片的话，肯定死可以热氧的，热氧只是吃掉一点儿硅而已，不影响结构。
如果你是做光波导的话，又需要很厚的氧化层，那毫无疑问，直接买做好热氧的很厚的氧化硅片。rdmicro，可以网上搜一下。一般国内外做光波导领域的用的都是用的日本或美国产的厚氧化硅片。也可以通过站内短信和我联系。
如果是在氧化硅上面再做掺杂的氧化硅的话，只能是CVD，但是LPCVD也是高温工艺，并且很难做厚，所以才有ICP-CVD的需求啊。
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2楼2016-08-16 10:23:01
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wj0702114081

金虫 (正式写手)

学神的奴隶
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2016-08-16 10:23:01
毫无疑问是热氧。没明白什么叫衬底有硅层？是硅片？如果是硅片的话，肯定死可以热氧的，热氧只是吃掉一点儿硅而已，不影响结构。
如果你是做光波导的话，又需要很厚的氧化层，那毫无疑问，直接买做好热氧的很厚的氧 ...

我的是硅衬底，然后上层是另外一层其他薄膜材料，要用ICP刻蚀这层薄膜，想用二氧化硅做掩膜。
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3楼2016-08-16 16:12:08
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邬新

金虫 (小有名气)
PLD吧？

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4楼2016-08-17 09:19:07
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