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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 压电铁电材料 » 怎样通过PLD制备出性能较好的铁电薄膜（~10 nm）
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rz365go

铁虫 (初入文坛)

[求助] 怎样通过PLD制备出性能较好的铁电薄膜（~10 nm） 已有3人参与

使用PLD长铁电薄膜差不多1年了，但总是长不好。之前长的100 nm左右的，测了宏观铁电性能（电滞回线，C-V，介频谱）各方面还可以。现在其他参数没变，沉积时间减少，薄膜厚度变薄后，用PFM（压电力显微镜）观察，粗糙度有点大，性能很差。微调氧压，频率等 都没有效果。都快绝望了。请各位大神指点一下通过什么方法能长好铁电薄膜？或者说有没有PLD操作或使用过程中的小技巧？
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1楼 2016-06-29 10:17:51
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Jack2008082

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

从我目前做的来看，氧压对薄膜表面形貌的影响相对来说比较大吧，可以不同层次的氧压多试几次
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2楼2016-07-06 22:08:43
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kangye_1989

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

你的结晶质量怎么样，１０ｎｍ薄膜太薄了，沉底表面要处理一下，要不沉底粗糙度太大也会影响你薄膜连续性
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3楼2016-07-21 09:34:41
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kangye_1989

木虫 (著名写手)
是衬底，错别字了
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4楼2016-07-21 09:35:26
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wiseroy

木虫 (著名写手)

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【答案】应助回帖

降低铁电薄膜的沉积速率。试试。

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善良
5楼2016-08-07 23:08:39
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