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1005715100木虫 (正式写手)
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纯钛微弧氧化处理工艺微孔分布控制
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各位虫友，我们现在做的是纯钛微弧氧化过程中对孔的形貌进行控制，得到了许多存在于凹坑内部的介孔结构，但是由于凹坑分布不均匀，导致介孔结构密度很小。现在尝试使凹坑分布均匀，进而提高介孔结构密度，打算在电解液方面寻找突破，请教大家两个问题：1,大家之前做的话，在什么电解液或者添加剂的情况下，膜层表面结构均匀且全部覆盖？2，如果大家得到的膜层也不均匀，能否通过有机添加剂进行调节，可以选择那些添加剂进行尝试呢？ 谢谢大家了，期待大家各抒己见 @comma 发自小木虫Android客户端 |
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1005715100
木虫 (正式写手)
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