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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 镁热还原二氧化硅后体系中的氧化镁除不干净。求解救
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猫小小xiao

木虫 (小有名气)

[求助] 镁热还原二氧化硅后体系中的氧化镁除不干净。求解救

如题。试过1M/2M/6M盐酸，且盐酸过量，但是每次测XRD都存在很强的氧化镁的峰，求大神指点，不胜感激@dut_ameng
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1楼 2016-05-16 19:02:29
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匿名

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猫小小xiao
3楼2016-05-16 22:46:15
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猫小小xiao

木虫 (小有名气)
恳请大神们出出主意哦~(???ω???)

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2楼2016-05-16 19:22:15
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猫小小xiao

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3楼: Originally posted by 壁雪青松 at 2016-05-16 22:46:15
用盐酸一般能泡掉的，时间要长一点，温度可以高一点60-80度。如果还泡不掉，考虑下是不是有可能氧化镁被硅包裹了。不知道你具体实验细节，个人的推测。

如果被硅包裹了是不是就很难被除去了啊？

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4楼2016-05-16 23:04:49
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猫小小xiao

木虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 猫小小xiao at 2016-05-16 23:04:49
如果被硅包裹了是不是就很难被除去了啊？
...

我做过12小时和24小时的都没用，超声也没用，现在就差没试过高温处理了(T＿T)

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5楼2016-05-16 23:05:48
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匿名

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猫小小xiao
6楼2016-05-16 23:16:27
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猫小小xiao

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6楼: Originally posted by 壁雪青松 at 2016-05-16 23:16:27
是的，如果被包的话高温也没用了。只能用氢氟酸，而氢氟酸同样可以破坏氧化硅。建议先60度泡24个小时吧。但是样品要少，盐酸要多。因为如果你样品太多，盐酸虽然很浓，但是还不够反应消耗，自然泡不掉。
...

十分感谢

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7楼2016-05-17 08:18:48
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猫小小xiao

木虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 壁雪青松 at 2016-05-16 23:16:27
是的，如果被包的话高温也没用了。只能用氢氟酸，而氢氟酸同样可以破坏氧化硅。建议先60度泡24个小时吧。但是样品要少，盐酸要多。因为如果你样品太多，盐酸虽然很浓，但是还不够反应消耗，自然泡不掉。
...

试过盐酸过量80度处理24小时了，还是除不掉(T＿T)用氢氟酸泡的话生成的氟化镁难溶于水…您做过用氢氟酸处理吗？

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8楼2016-05-18 16:35:47
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9楼2016-05-18 16:56:58
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123wangrui

金虫 (小有名气)
这么熟悉的题目

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冷静切勿浮躁
10楼2016-05-18 17:58:57
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