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为什么吸附Cl-后,通过Mott-Schottky Pair 反应产生氧空缺/金属离子空缺对?
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依据PDM模型[15](点缺陷模型),钝化膜中的各种高浓 度的点缺陷形式,如金属空缺(Vx″O)和氧空缺(VO″)等处于稳 态的钝化膜,金属基体/膜界面钝化膜的生长与膜/电解液界 面钝化膜的溶解存在一种动态平衡.当钝化膜处于含有侵蚀 性离子(如Cl-)溶液中,膜/电解液界面的氧空缺可吸附Cl- 并与其通过Mott-Schottky Pair反应产生氧空缺/金属离子空 缺对,生成的氧空缺又可以与膜/溶液界面其他的Cl-继续 反应,产生更多的金属离子空缺(见图4).因此金属离子的产 生过程是自催化过程,多余的金属离子空缺在金属基体/膜 界面局部堆积,将金属基体与钝化膜隔离,阻止了钝化膜的 继续生长.这样钝化膜的动态平衡遭受破坏,只溶解而不再 继续生长 |
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