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[交流] 【转帖】第四届中国二次离子质谱学会议暨北京二次离子质谱学国际研讨会【已搜无重复】

第四届中国二次离子质谱学会议暨2008北京二次离子质谱学国际研讨会(SIMS IV,China / ISSIMS 08 Beijing) 将于2008年10月26日～29日在中国矿业大学（北京）校园举行。国际二次离子质谱学奠基人、国际二次离子质谱学会议创始人A. Benninghoven教授特别为本次会议发来贺信。2009年第17届国际SIMS会议主席美国纽约国立大学Buffalo分校J.Gardella教授、2007年第16届国际SIMS会议主席日本SeiKei大学M. Kudo教授、德国ION-TOF公司著名SIMS专家E. Niehuis博士、现任国际SIMS会议国际委员会委员和秘书英国国家物理实验室I. Gilmore博士、新加坡国立大学理学院院长T.S.Wee教授、台湾新竹清华大学凌永健（Y.C.Ling）教授、香港科技大学翁禄涛（L.T.Weng）博士等活跃在SIMS前沿科研和工业应用领域的境外著名学者和专家已确定出席本次会议并作邀请报告。会议将安排口头发言和张贴报告（报展）。德国ION-TOF、日本ULVAC-PHI和法国Cameca等著名厂商将在会间展示其最新仪器技术和应用成果。
为迎接我国SIMS群体新成员更快的发展，使与会者更好地理解学科发展的基础、应用和当代仪器的新进展，本届会议首次在第一天安排了免费特别培训课程。北京和新竹清华大学的查良镇和凌永健教授将分别主讲二次离子质谱学的基础和应用；瑞士联邦理工学院（ETH）“杰出贡献奖”获得者、我国34岁的陈焕文教授受特邀将介绍他在相关新型离子化技术研究的最新成果及其典型应用，并介绍今年第六届欧洲SIMS会议的概况。三家国际最著名SIMS仪器公司的专家将主讲各自仪器的技术特点和功能运用最新进展。课程安排赢得了积极响应，报名者既有高校和院所的研究生，又有跨国公司的年轻工程师。很多论文作者及正式参会代表也在回执中选择了参加特别培训课程，他们认为这有助于更好地理解SIMS学科发展的前沿和应用领域的新发展，拓展对不同类型SIMS仪器和应用认识的视野。
本届会议由中国矿业大学（北京）（www.cumtb.edu.cn ）及煤炭资源与安全开采国家重点实验室(www.crsm.org )主要承办，已经得到北京和新竹清华大学、中国科学院地质与地球物理研究所、中国原子能科学研究院、北京离子探针中心、北京大学医学部、上海复旦大学、天津电子材料研究所、中国质谱学会及《质谱学报》、香港科技大学、新加坡国立大学和新加坡Chartered半导体公司、德国ION－TOF公司、法国Cameca公司和日本ULVAC-PHI公司等的支持或赞助。有各界同仁关心支持和积极参与，相信本届会议及培训课程的顺利举行，必将推进我国SIMS应用和研究的发展。
会议地点
中国矿业大学（北京）学术交流中心（请浏览http://www.simsIVchina.org）
会议时间
2008年10月27日～29日

[ Last edited by wbaishi on 2008-11-27 at 17:08 ]

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