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银虫 (正式写手)

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[交流] 求助氧化镍负载氧化铝的TPR分析

TPR实验：做的氧化铝浸渍的镍盐，发现了TPR在500~900度只出现了一个峰。文献中一般是两个峰。请给与解释，一般文献是300~500度一个峰，600~800度一个峰。

文献一般用的是450~550度焙烧，我用的是500度焙烧。
想问除了制备上会影响，TPR影响大吗。

仪器是Micromeritics，我的实验条件：升温速率为10K/min.催化剂用量50mg。H2/Ar=10:90,体积流速=40ml/min.Ar预处理1h(200度）。请大家给一个解释，先谢谢了。

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1楼 2008-10-24 15:12:31

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qm13426292146

木虫 (正式写手)

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★
^_^@^_^(金币+1,VIP+0):多谢分析！

制备特别是焙烧温度对TPR影响很大的,就拿你的体系来说吧,一般焙烧温度在450-550,而文献中的TPR又在600-800度出现还原峰,这个峰文献是怎么归属的?此峰高于了焙烧温度,是不是催化剂上杂质的分解峰?可以做个空白实验对照一下以确定.至于你的体系为什么只出现一个还原峰就不太好说了,也没看到你的图形,是不是两个峰叠合在一起了?