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FLYFWY木虫 (小有名气)
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Al靶问题 已有1人参与
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磁控溅射Al靶用完成这样了。镀的过程局部辉光很亮。 想确认一下是不是以下两个原因造成： 1.功率过大（6A），导致打火 2.磁场不均匀，导致局部溅射太厉害   发自小木虫IOS客户端 |
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 薄膜制备与特性 |
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vincentwz
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凹槽不均匀就是磁场不均匀引起的。功率大不大不能单独的说，和靶材面积有关，所以应该看功率密度，这也反应到镀率，我觉得如果镀率在15a/s以下应该都没有问题的。另外靶材的散热好不好，这可以通过靶材冷却水的回水温度大概判定，如果回水温度明显比进水温度高，就表明散热还好。散热不好得话会引起靶材变形 发自小木虫Android客户端 |
2楼2016-04-08 09:22:55
FLYFWY
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3楼2016-04-11 11:16:45
vincentwz
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【答案】应助回帖
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FLYFWY: 金币+40, ★★★★★最佳答案 2016-04-13 16:12:48
FLYFWY: 金币+40, ★★★★★最佳答案 2016-04-13 16:12:48
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功率密度还好。你这个散热的问题很大，散热不好导致靶材局部受热变形，同时也造成磁钢的磁性不均匀，磁场又反过来影响靶材的均匀性。 所以首先换掉铜板，保证铜板和靶材背面平整，然后涂一些真空用的导热硅脂在靶材背面，保证靶材和铜板之间的良好接触和热传导，我估计这能解决很大问题 另外好奇，这么大的溅射靶材，你这是用在哪方面的？ |
4楼2016-04-11 11:42:36
5楼2016-04-11 12:02:54
6楼2017-03-23 23:54:41