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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 【有奖活动】晒晒我们的实验仪器
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NJUT_tiger

荣誉版主 (著名写手)

[交流] 【有奖活动】晒晒我们的实验仪器

【前言】
     我们搞材料的，合成制备，分析检测，性能检验每一步都需要很多实验仪器，而我们自己平时接触的也就是几种仪器，有更多的仪器我们可能还没有机会看到，或者看到了也不知道是什么样的仪器。
【活动目的】
      本着扩展我们的视野长见识，为我们的科研和以后工作打基础的目的
【活动形式及奖励】

       原创+2金币  原创加心得+5金币
      发帖格式如下：
      【仪器图片】-----------
      【仪器使用心得】-----------
      【仪器型号】-----------
      【仪器厂家】-----------
      【仪器作用】-----------
      【仪器价格】-----------
      【仪器产品图】----------
      【仪器简单操作】------
【备注】
        仪器的图片尽量是原创图片（自己实验室用的），如果设备是制造类的设备的话，尽量可以把制造的样品图贴出来（如果不涉及保密的话），希望大家本着自己用过的原则，可以写写自己用过的心得

[ Last edited by NJUT_tiger on 2008-11-3 at 23:53 ]
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自信，执着，勤奋，虔诚，自制
1楼 2008-10-21 16:09:22
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xuxiuhua91

木虫 (小有名气)
NJUT_tiger(金币+0,VIP+0):透射电镜有了。。。呵呵，这个不加分
【仪器图片】---）
      【仪器型号】JEM-3100F
      【仪器厂家】日本电子株式会社(JEOL)
      【仪器作用】观察样品的内部结构
      【仪器价格】360w
      【仪器照片来源】同学给的
      【仪器参数：点分辨率：0.17nm
线分辨率：0.1nm
STEM ：0.14nm
电子枪 ：肖特基式热场发射枪
亮度 ：7x108A/cm2sr以上
束流强度：0.5nA 以上/1nm
放大倍数：x60 - x1,500,000
能谱立体角：0.13sr

透射电子显微镜:

光学显微镜下无法看清小于0.2µm的细微结构，这些结构称为亚显微结构（submicroscopic structures）或超微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron microscope，TEM），电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。目前TEM的分辨力可达0.2nm。

电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子枪、聚光镜、物样室、 物镜、衍射镜、中间镜、 投影镜、荧光屏和照相机。

电子显微镜是使用电子来展示物件的内部或表面的显微镜。 高速的电子的波长比可见光的波长短（波粒二象性），而显微镜的分辨率受其使用的波长的限制，因此电子显微镜的分辨率（约0.1纳米）远高于光学显微镜的分辨率（约200纳米）。
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25楼2008-10-26 23:12:54
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SHY31

至尊木虫 (知名作家)

小木虫研究生院西南地区区长

优秀版主
沙发哦~~~等我照相了再发
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小木虫研究生院
2楼2008-10-21 16:57:24
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scorpion3602

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+26,VIP+0):第一个照片重奖～～
支持！
先来张图片，只有正面的（原创）。

【仪器型号】：NJ-4-2
【仪器厂家】：南京杰全微波设备有限公司
【仪器作用】：简单的说就是用微波为热源合成粉体或者烧结材料
【仪器价格】：3W

[ Last edited by scorpion3602 on 2008-10-21 at 18:17 ]
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4楼2008-10-21 18:10:20
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flbwlx

铁杆木虫 (职业作家)

单身家族之“大总管”
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
NJUT_tiger(金币+21,VIP+0):谢谢支持～～好东西～～ 欢迎flbwlx兄可以给我们介绍介绍薄膜制备方面的东西～～
仪器是和中间那个一样的
      【仪器型号】------ PLD-300
      【仪器厂家】------中科院沈阳科仪中心
      【仪器作用】-------制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜
      【仪器价格】-------50w左右
概述：
应楼主要求介绍一下PLD沉积薄膜的知识，只是大概，还望大家批评指正
脉冲激光沉淀是将脉冲激光器产生的高功率脉冲激光束聚焦于靶材料表面, 使其产生高温熔蚀, 继而产生等离子体羽辉, 同时这种等离子体定向局域发射沉积在衬底上而形成薄膜,。整个物理过程分为: 等离子体产生、定向局域膨胀发射、衬底上凝结。由于高能粒子的作用, 薄膜倾向于二维生长, 这样有利于连续纳米薄膜的形成。随着科技的发展, 超快脉冲激光、脉冲激光真空弧、双光束脉冲激光等最新的激光发生器用于激光沉淀纳米粒子膜制备技术。脉冲激光沉积能在较低的温度下进行, 形成复杂多层膜, 过程易于控制,但并不利于沉积大面积的均匀薄膜。通过控制其参数可制备不同的纳米粒子膜, 其主要参数包括激光波长、激光能量强度、脉冲重复频率、衬底温度、气压大小、离子束辅助电压电流、靶基距离等的优化配置等。合理改善参数, 是加速脉冲激光沉淀技术的商业化使用进程的最有效的途径, 是制备理想薄膜的前提。另外,靶材和基片晶格是否匹配,基片表面抛光、清洁程度均影响到膜- 基结合力的强弱和薄膜表面的光滑度。脉冲激光具有长的波长和高的能量密度时，沉积薄膜的生长速度加快，但同时，组成薄膜的粒子尺寸变大，尺寸差异变大，大粒子所占比重增加，得到颗粒状的晶体，薄膜表面粗糙，内部有孔洞。原因是衬底温度较低时，沉积粒子没有足够的能量形成规则有序的晶体结构，而且反应室中气氛的存在更使沉积粒子的能量降低，成为形成晶体的阻力。若衬底的温度较低，则沉积的薄膜由高温冷却下来，由于热应力的影响，容易在薄膜与衬底的结合处产生微裂纹，不利于薄膜与衬底的结合。在脉冲激光沉积制备薄膜中，剥离靶材的激光能量密度应控制在适当范围内。一方面，激光能量密度太大时，会从三个方面影响薄膜的质量：第一，激光剥离靶材时而产生的等离子体的能量较高，它碰撞基片或己沉积的薄膜时，会使基片或薄膜的局部升温，若局部温度超过l000℃，则在此处生长的薄膜就会分解，产生其它的杂相第二，激光与靶材相互作用时会产生更多、更大的颗粒，从而影响薄膜的表面形貌和特性。一般来说，在临界能量密度以上，颗粒的平均大小随着能量密度的增加而增加；第三，由于等离子体具有更大的能量，会对基片或己沉积的薄膜产生溅射损伤。而另一方面，当激光能量密度太小时，等离子体没有获得足够的能量到达基片，直接影响薄膜的性能，这个时候，激光与靶材的相互作用主要是导致靶材的蒸发，由于靶材中各组分的饱和蒸气压的不同，因此在基片上不可能得到与靶材同成份的薄膜。
PLD是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于靶体材料表面，使靶体材料表面产生高温及熔蚀，并进一步产生高温高压等离子体( T≥104K)，这种等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积而形成薄膜。一般认为它可以分为三个过程：(1)激光表面熔蚀及等离子体产生；(2)等离子体的定向局域等温绝热膨胀发射；(3)在衬底表面凝结成膜。与其他制膜技术相比，脉冲激光沉积独特的物理过程主要有以下优点：(1)可以生长与靶材成分一致的多元化合物薄膜，甚至含有易挥发元素的多元化合物薄膜，是其最突出的优点。由于等离子体的瞬间爆炸式发射，不存在成分择优蒸发效应，等离子体发射具有沿靶轴向空间约束效应，从而保证了膜的成分与靶材成分一致。(2)能够沉积高质量的纳米薄膜，高的离子动能具有显著增强二维生长和抑制三维生长的作用，促进薄膜的生长沿二维展开，因而能获得连续的极细薄膜而不形成分离核岛。(3)由于灵活的换靶装置，便于实现多层膜及超晶格薄膜的生长，多层膜的原位沉积便于产生原子级清洁的界面。(4)沉积温度低，可以在室温下原位生长取向一致的织构膜与外延单晶膜。(5)设备简单，灵活性大，薄膜厚度容易控制，系统污染少。目前，PLD技术主要用于实验室研究，限制其应用的两个主要原因是：(1)沉积薄膜中有熔融小颗粒或称靶材碎片。这是在激光引起的爆炸过程中喷溅出来的，这些颗粒的存在大大降低了薄膜的质量。减少表面颗粒有多种方法，如速度过滤法，提高靶材的致密度与表面光洁度，降低激光波长与能量密度等。(2)难以沉积大面积的均匀薄膜。

[ Last edited by NJUT_tiger on 2008-10-22 at 11:31 ]
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5楼2008-10-21 19:22:21
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