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mott-schotty测量金属钝化膜半导体特性求助
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最近在用princeton电化学工作站做motty-schottky研究钝化膜半导体特性，因为实验室从前没有做过相关方面的，自己从文献上找方法进行了相关测量，但是数据重现性很不好，在一些细节方面还不是很清楚，希望把自己的方法写出来请各位指正： 我是做的金属钝化膜半导体特性研究 1，金属电极磨好之后，浸入溶液中，连接好电解池，设置好还原电位还原金属表面氧化膜30min 2，还原之后，再选取氧化电位氧化1h 3,设置好测量电位区间，从钝化电位开始，从高电位扫到低电位 请问中间有什么细节需要注意的吗，比如说，测试tafel的时候，都是在溶液中浸泡1h电位稳定的时候再开始测，m-s测得时候需要注意这个吗？数据重现性不好可能是哪些方面引起的呢？请各位老师同学帮助  ， |
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