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新换了锰酸锂靶材，想用磁控溅射镀膜，想知道实验条件控制到什么样子合适一点
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以前一直用的是金属靶材，最近想用磁控溅射的方法制备薄膜，找了一下也没有找到相关的实验条件是什么样的，第一次做，想问问有没有大神做过这方面的实验，锰酸锂这样的靶材用直流做的话什么样的实验条件比较合适，比如压强，靶基距等实验条件参数多少的情况下它的溅射效果稳定一点呢，还有射频和直流哪个好一点呢，小白，求轻喷 |
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 薄膜制备与特性 |
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