| 查看: 531 | 回复: 0 | |||
[求助]
新换了锰酸锂靶材，想用磁控溅射镀膜，想知道实验条件控制到什么样子合适一点
|
以前一直用的是金属靶材，最近想用磁控溅射的方法制备薄膜，找了一下也没有找到相关的实验条件是什么样的，第一次做，想问问有没有大神做过这方面的实验，锰酸锂这样的靶材用直流做的话什么样的实验条件比较合适，比如压强，靶基距等实验条件参数多少的情况下它的溅射效果稳定一点呢，还有射频和直流哪个好一点呢，小白，求轻喷 |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 薄膜制备与特性 |
» 猜你喜欢
南开大学杰青团队 招收理论计算方向 2026级博士生
已经有4人回复
-
中国科学院赣江创新研究院水下信息技术中心团队人才招聘
已经有0人回复
-
无机非金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有216人回复
-
中国科学院赣江创新研究院水下信息技术中心人才招聘
已经有0人回复
-
招收26年秋季入学博士生（北科大高精尖学院 力学超材料/机器学习/增材制造相关方向）
已经有18人回复
-
求助内蒙古工业大学 代码：811 物理化学 2025年考试真题
已经有0人回复
-
新加坡南洋理工大学招聘博士后（固态电池，固体离子导体，转化正极方向）
已经有15人回复
-
北京工业（211）课题组收博士
已经有0人回复
-
国家杰青低维材料与器件力学团队招收博士研究生
已经有10人回复
-
国家杰青低维材料与器件力学团队2026年招收博士研究生
已经有10人回复