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[求助]
求助薄膜掠入射XRD图谱为什么会出现这种情况
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我采用磁控溅射在Si(100)基底上沉积氧化铬薄膜，最近掠入射XRD测试生成物相，出现图1这种情况，在35°左右峰强增加并且之后的基线都提高。图2是以前测试的，基线和峰都正常。求助有没有大神了解此原因的。测试设备帕纳科 XPert Pro，入射角1°。图3为测试条件。 图1.png  图2.png  图3.png |
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