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LAnza_lw银虫 (小有名气)
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磁控溅射镀膜膜厚测量方法讨论已有1人参与
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目前主要从事中频反应溅射，需要在2D或3D面（光滑/粗糙）上镀装饰膜；测量膜厚的方法主要是：球磨>金相显微镜测截面>SEM,膜厚分布1~4μm；球磨法较快，但是测量误差很大（0~0.5μm）；金相镜须制样且同样受测试员操作影响，而且研磨面令人发指；SEM耗时长（24H有报告），也苦于表面制备垃圾、成本。请问有没有其他可以精准测量膜厚(误差不超过0.1μm)，用时短（<3h）的方法呢？晶振片适用于磁控溅射吗？请指教，谢谢 |
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 磁控溅射镀膜工艺 |
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4楼2018-05-21 19:15:19
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3楼2018-05-21 18:50:08
jackyang1995
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5楼2018-05-21 19:15:39
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