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pengjinabc

至尊木虫 (正式写手)

[求助] 光刻胶上蒸镀金属膜,发现起泡开裂。 已有4人参与

最近在硅片上涂聚酰亚胺薄膜,然后用光刻胶AZ5214做掩膜,蒸镀金属几百纳米。取出来发现片子上光刻胶区域的金属膜有很多小裂纹,分布于整个片子表面。Lift-off之后,发现原光刻胶区域的小裂纹处有很多金属细纹,明显是光刻胶在镀膜过程中开裂了,金属从裂纹蒸镀进去了。
为了找出是什么原因。今天直接在硅片上旋涂光刻胶AZ5214,没有进行光刻,直接烘烤。然后镀了100nm左右的金属膜,取出后发现片子光刻胶上蒸镀的金属层有很多点,用显微镜观察发现是一个个小泡(金属层起小泡了)(小泡的直径在50微米到200微米之间)。将小泡戳破后发现,是光刻胶上的金属层起泡。
请问各位虫友,为什么会出现这样的情况?(蒸镀金属几百纳米,金属层开裂 和 蒸镀金属100纳米,金属层起泡)。
{金属层开裂那时是在硅片上涂了一层聚酰亚胺膜,再在上面用光刻胶AZ5214做的掩膜层,镀金属厚度差不多三四百纳米。
金属层起小泡那时时直接在硅片上涂AZ5214光刻胶层,没有进行曝光显影,只是直接烘烤固化,再进行镀膜。}
这种情况虫友们知道问题出在哪了吗?
是蒸镀温度的问题还是光刻胶或聚酰亚胺层的问题?
图片是金属层起的小泡的显微照片。
光刻胶上蒸镀金属膜,发现起泡开裂。
戳破的小泡


光刻胶上蒸镀金属膜,发现起泡开裂。-1
不是小泡,但也有起皱,应是起泡的前奏


光刻胶上蒸镀金属膜,发现起泡开裂。-2
金属层起的小泡,有些区域特别密集
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pengjinabc

至尊木虫 (正式写手)

引用回帖:
16楼: Originally posted by 勿忘心安里 at 2016-01-13 23:59:18
我怀疑是光刻胶本身的问题,如果是烘烤温度和时间没设定好,出现的情况也不是这样。

是吗,但是把镀膜的厚度降低,相同的工艺,我前两天做的片子就开裂,别人相同工艺不过做出来的片子放了一段时间了(快一周了)镀膜就不开裂。
我们显影后都没烘烤。这样我就怀疑是不是它放的时间比较久,一些东西挥发了,所以不开裂?那是不是涉及显影后烘烤的问题?
那你说显影后不烘烤,然后镀膜温度比较高应该是怎么样的现象?

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
17楼2016-01-14 00:05:54
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匿名

用户注销 (小有名气)


明亮的眼眸: 金币+1, 欢迎新虫常来工艺技术版块噢 ^_^ 积极提出自己的疑问 2016-01-09 22:39:53
本帖仅楼主可见
2楼2016-01-07 23:01:37
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pengjinabc

至尊木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 王玉滨 at 2016-01-07 23:01:37
师兄,您好!请问下如果是要在硅片上刻微通道,涂抹的膜还需要不?PS:新人刚接触,望海涵哦!

是刻蚀吗?我没做过,不过从原理上说,必须保留啊,从硅片上没有光刻胶的区域刻蚀进去。
你只说刻微通道我不知道你具体的工艺是什么,所以不好回答。
3楼2016-01-07 23:11:23
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匿名

用户注销 (小有名气)

本帖仅楼主可见
4楼2016-01-07 23:20:00
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