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徐晓红

金虫 (初入文坛)

[求助] 请问氢氟酸除去二氧化硅的问题 已有1人参与

请问可以用10%的氢氟酸除去反应物中的二氧化硅吗?具体的操作步骤:将产物溶于10%的氢氟酸中,然后在通风橱中80-85度下搅拌4小时后,接着该怎么做,是过滤吗?求各位指导一下
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ccsclver2008

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
离心去除,不过废液不能随便倒,用过量的氢氧化钙或者氯化钙处理,然后用塑料瓶装好
干就最好,争就第一!
2楼2015-12-29 14:23:33
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aixiayutian

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
10%的有点高吧   4%的就可以,你是用的介孔二氧化硅吗?
最好的就是现在行动
3楼2015-12-30 13:08:08
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wasdwdsa455

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
你需要的是固体所以离心比较好,先把溶液稀释
4楼2015-12-31 16:56:26
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
用不着10%吧,我曾经做过1%刻蚀二氧化硅球,过夜就能刻蚀完全,也不需要加热。 不一定要离心,可以过滤分离,用滤膜过滤器,1000 ml那种,底下瓶子先放入NaOH的溶液。抽滤快,离心太麻烦。废液需要单独收集并处理!
”五爱青年“:爱科技,爱音乐,爱IT,爱阅读,爱健身
5楼2015-12-31 22:14:33
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6楼2015-12-31 22:30:24
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7楼2015-12-31 22:45:14
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徐晓红

金虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by aixiayutian at 2015-12-30 13:08:08
10%的有点高吧   4%的就可以,你是用的介孔二氧化硅吗?

是啊
学点东西哦
8楼2016-01-14 11:42:00
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徐晓红

金虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by xuzhixiao at 2015-12-31 22:14:33
用不着10%吧,我曾经做过1%刻蚀二氧化硅球,过夜就能刻蚀完全,也不需要加热。 不一定要离心,可以过滤分离,用滤膜过滤器,1000 ml那种,底下瓶子先放入NaOH的溶液。抽滤快,离心太麻烦。废液需要单独收集并处理!

哦 谢谢了  很详细
学点东西哦
9楼2016-01-14 11:42:30
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木木牙签

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by aixiayutian at 2015-12-30 13:08:08
10%的有点高吧   4%的就可以,你是用的介孔二氧化硅吗?

正在做介孔二氧化硅,请问4%HF浸泡二氧化硅要多久才能去除干净呢
10楼2018-12-05 22:08:26
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