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lg2880

铁杆木虫 (正式写手)

【鬼迷日眼】

[交流] 磁控溅射关于靶基距与功率密度的关系!!

请教各位大侠,磁控溅射靶基距与功率密度有关系吗?相同尺寸的溅射室,相同的功率下,靶基距不同,功率密度是否相同呢?功率密度的计算是不是以面积或体积来计算都可以?
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宁可心在江湖言江湖,不可身在江湖怨江湖!
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lg2880

铁杆木虫 (正式写手)

【鬼迷日眼】

引用回帖:
15楼: Originally posted by LED_kevin at 2015-12-30 18:48:46
我本科毕业论文做的是离子束溅射(磁控溅射另一个同学做的),感觉靶基距和功率密度应该是没有关系的(没有想过),但靶基距会影响衬底沉积速率以及均匀度

你说的很对,赞,多交流
宁可心在江湖言江湖,不可身在江湖怨江湖!
16楼2015-12-31 08:31:34
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zhuguiqiu

禁虫 (文坛精英)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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2楼2015-12-23 16:04:58
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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊

★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
lg2880: 金币+5, 赞 2015-12-24 11:38:26
功率密度是指你的靶阴极与电源功率之间的相互耦合的结果,影响因素包括你靶材会切方向磁场的耦合,靶材本身的材料属性以及所施加功率。但我认为与靶基距应该是没有什么关系的。当然,靶基距小了,薄膜的沉积速率肯定会提高。

举个例子,房间里面的吊灯距离写字台的高度决定你在办公的时候所能接受到的光强,当吊灯与写字台高度距离小,你的写字台当然会明亮多一点,但吊灯本身的发光强度以及房间里面总功率都没有变化。
趁年轻,多折腾!曾年轻,折腾过?!
3楼2015-12-23 21:17:12
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lqm070

铁杆木虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
我也不懂,但是觉得你说的是俩个不相关的问题,一靶基距是制样因素,二功率应该是原理产额因素……待解

发自小木虫Android客户端
4楼2015-12-23 21:44:37
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