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赵煦小窝木虫 (著名写手)
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[交流]
SBA-15和KIT-6
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请问各位虫友，文献里合成这类介孔结构的方法中，加入的TEOS，盐酸，n-butanol液体都是按照质量计算的。如果换算成体积去量，例如HCl挥发的因素得考虑啊；其次必定会有小数点的问题。请问大家是怎么解决这个问题的？？ 谢谢大家。欢迎交流 |
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赵煦小窝
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5楼2015-11-18 14:36:46
2楼2015-11-17 08:40:36
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3楼2015-11-18 01:27:46
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赵煦小窝: 金币+6 2015-11-18 14:33:13
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赵煦小窝: 金币+6 2015-11-18 14:33:13
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有序介孔氧化硅的合成，如你提到的SBA-15，KIT-6，FDU-12，如果你弄清楚了合成的基本机理，盐酸的作用，你就明白盐酸的浓度，还是精度是不是对合成成败有影响了。 盐酸只是起到酸的作用，来促使TEOS水解。在TEOS水解成溶胶的同时，P123软模板也在慢慢地产生成有序的液晶相。硅溶胶要在液晶相上通过氢键组装。从这个机理而言 （1）硫酸、硝酸、盐酸都可以使用，你可以参考赵东元老师的Science。 （2）酸的浓度确实影响TOES水解的速率。如果水解速率太快。则硅溶胶则快速缩聚，不能在液晶模板上组装成有序的硅溶胶——进而影响后续的氧化硅的有序度。但是酸的浓度压根不需要太准确。什么挥发问题，什么浓度的小数点问题。都不是要你担心的。 （3）在有序介孔氧化硅的合成成败（特别是是否有序）的众多因素中。第一步软模板机能否产生有序的液晶相才是最重要的因素。 |
4楼2015-11-18 10:25:38