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丫丫smile

新虫 (初入文坛)

[求助] 带氧化层硅片的清洗已有1人参与

新硅片事先用划片机切的,用丙酮浸泡去胶,然后用丙酮、异丙醇、去离子水超声15min清洗,用显微镜观察发现表面还是有很多黑色的颗粒和污渍。
求问各位大侠,这种带二氧化硅层的硅片怎么才能洗的干净?(不能去除表面的氧化硅)
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yswyx

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【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
RCA清洗
划好的片子很难洗的。
2楼2015-11-09 11:04:24
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yswyx

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引用回帖:
3楼: Originally posted by 丫丫smile at 2015-11-09 15:49:43
RCA的话浓氨水和氢氟酸不会把氧化硅层破坏掉吗?
...

哪儿来的氢氟酸???
4楼2015-11-10 08:41:57
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yswyx

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引用回帖:
5楼: Originally posted by 丫丫smile at 2015-11-14 15:08:12
RCA清洗流程中有一步为氢氟酸清洗呀...

如果清洗裸硅片,是3312+HF,如果是氧化片,3312就可以了
6楼2015-11-19 14:01:01
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yswyx

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引用回帖:
7楼: Originally posted by gjl001026 at 2015-12-18 21:22:47
什么是3312啊?求解释...

RCA清洗里,分为1、2、3号液,3312就是不同液体清洗的顺序

发自小木虫Android客户端
8楼2015-12-19 11:30:24
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