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圣手门徒铁杆木虫 (正式写手)
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10楼2015-09-09 08:46:55
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3楼2015-09-07 08:45:33
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【答案】应助回帖
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感谢参与,应助指数 +1
圣手门徒: 金币+2, ★★★很有帮助 2015-09-07 12:42:56
感谢参与,应助指数 +1
圣手门徒: 金币+2, ★★★很有帮助 2015-09-07 12:42:56
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你好!对于你提供的这些结果,我有一些见解可供你参考。 首先,在你采用的烧结过程中,若SiO2成为了液相,那么烧结温度至少已达到1700摄氏度以上。液相产生本身将促进烧结过程,但你提到烧结样品的致密度反而先讲了。个人认为此现象可能与反应烧结气氛相关。你没有提到你的烧结气氛,即若烧结气氛为还原性气氛,则二氧化硅SiO2将被还原成为一氧化硅(Si0)。Si0的气化温度相对较低,将挥发逸出而产生通孔即气孔,从而降低烧结产品的致密度。 其次,你提到加入了B2O3后烧结产品的致密度提升。这点与B2O3的低熔点特性并无矛盾。而你的实验结果的产生原因主要在于,加入的B2O3与反应物中的SiO2可形成硼硅玻璃相。此玻璃相的形成不仅抑制了两者各自的挥发,而且将有效地促进烧结过程的传质过程(晶界扩散等),从而显著提高了烧结产品的致密度。 最后,建议你在今后测定样品的相对致密度时遵循以下原则。在可确定理论致密度的情况下,采用标准的阿基米德法;若理论致密度无法准确测定(例如你目前采用的这种挥发物较多且复杂的体系),可借助显微结构观察的方法,但在抛光表面进行观察有利于更准确地表征气孔的形态和分布状况。 |
4楼2015-09-07 10:42:09







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