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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 离子束刻蚀机（考夫曼离子源）
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勿忘心安里

铁虫 (小有名气)

[交流] 离子束刻蚀机（考夫曼离子源）

大家好！我目前的研究方向是铁电薄膜材料的干法刻蚀工艺，用到的是离子束刻蚀机，其中有个问题是怎样判断我刻蚀到何处了，如何实时测量知道我的刻蚀情况（如厚度）。从仪器改造时一个方面，还能从哪个方面考虑！谢谢！
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1楼 2015-07-17 17:25:36
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黄治浩

新虫 (小有名气)
★
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我们用光刻和电子束曝光做的，使用电脑时上面应该有对应的参数吧，多少电压，离子数什么的，对应会有一个厚度。如果实在想知道用胶保护样品来个tem，afm类的检测
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12楼2015-07-18 12:51:30
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勿忘心安里

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
12楼: Originally posted by 黄治浩 at 2015-07-18 12:51:30
我们用光刻和电子束曝光做的，使用电脑时上面应该有对应的参数吧，多少电压，离子数什么的，对应会有一个厚度。如果实在想知道用胶保护样品来个tem，afm类的检测

可是我不知道对应的刻蚀厚度，设备太低端了。我就想着怎样知道什么时候我的铁电薄膜材料刻蚀完了（看能不能用一层合适的 牺牲层）
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13楼2015-11-18 09:19:41
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蜷缩一角

新虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
在固定的参数下刻蚀半小时或者一小时，计算一下这段时间内刻蚀掉的厚度，然后算一下刻蚀速率。薄膜总的厚度知道，刻蚀速率知道，两者除一下就知道何时能刻蚀完
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14楼2015-11-24 15:12:05
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