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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 资源交流 » 样品在基底上自组装后，用去离子水冲洗，请问怎么冲洗才是正确的？
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凡落Y

木虫 (小有名气)

[交流] 样品在基底上自组装后，用去离子水冲洗，请问怎么冲洗才是正确的？

After irradiation, the glass pieces were washed with distilled water and anhydrous ethanol several times each and then dried in a vacuum oven for 2 h at 50 C.
这是一篇文献中的，请问正确的冲洗方法是什么？不会把样从基底上冲下来吗？我每次做的样残留在基底上的量都很少，这是为什么？
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1楼 2015-07-08 13:25:19
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凡落Y

木虫 (小有名气)
引用回帖:
11楼: Originally posted by gxytju2008 at 2015-07-08 13:49:23
物理吸附建议不要洗，化学吸附随便冲，不会掉的

那我的基底上基本没有东西了是不是说明实验过程中样品只是单纯的物理吸附在基底上，并没有发生化学变化？
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22楼2015-07-08 14:06:04
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明亮的眼眸

版主 (文坛精英)
★ ★
凡落Y(金币+1): 谢谢参与
凡落Y: 金币+1 2015-07-08 14:03:18
多查找几篇文献，对比一下。

[ 发自小木虫客户端 ]
赞一下(1人) 回复此楼
10楼2015-07-08 13:48:18
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)
★ ★
凡落Y(金币+1): 谢谢参与
凡落Y: 金币+1 2015-07-08 14:03:44
物理吸附建议不要洗，化学吸附随便冲，不会掉的
赞一下(1人) 回复此楼
11楼2015-07-08 13:49:23
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gorgan7楼
2015-07-08 13:38   回复  
凡落Y(金币+1): 谢谢参与
祝福 [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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