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表面由巯基修饰的硫化铜纳米粒用什么条件进行介孔氧化硅包裹？
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| 考研时一不小心从工科转入理科，对于目前做化学合成和生物学实验倍感吃力——因为一切都得从零开始。现在在摸索着用介孔氧化硅包裹硫化铜的条件，看文献中一般步骤都是测出纳米粒的表面电性，再选择相应的离子表面活性剂，例如CTAB和CTAC，再加入一些醇类，在碱性条件下缓慢加入TEOS（正硅酸乙酯）。由于自己所合硫化铜纳米粒在测电位时无法测得结果，所以想请问一般被巯基修饰的硫化铜纳米粒表面是会带什么电位？再有就是在进行介孔氧化硅包裹时，不知如何配比，特别是暂时无法测得硫化铜的量！还有在碱性条件下时需要有特定的PH值嘛！还请大神们不吝赐教，不胜感激！！！ |
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