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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 计算模拟区 » 第一性原理 » Vasp&MedeA » 能带图的带隙分析
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tsglss

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by KalaShayminS at 2015-06-11 21:16:36
要得到和原来可以比较的带隙的话，不应该考虑杂质能级。

请问，简并半导体的话，它的带隙在哪里？或者说它有没有带隙呢

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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做好自己
21楼2015-06-13 17:01:48
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KalaShayminS

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
21楼: Originally posted by tsglss at 2015-06-13 17:01:48
请问，简并半导体的话，它的带隙在哪里？或者说它有没有带隙呢
...

按第一性计算的结果没有带隙，按半导体的模型，带隙就是原来的带隙
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22楼2015-06-13 17:40:53
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tsglss

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
22楼: Originally posted by KalaShayminS at 2015-06-13 17:40:53
按第一性计算的结果没有带隙，按半导体的模型，带隙就是原来的带隙...

那如果简并半导体带隙中出现杂质带的话带隙,该怎么看呢?谢谢
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做好自己
23楼2015-06-13 20:50:20
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KalaShayminS

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
23楼: Originally posted by tsglss at 2015-06-13 20:50:20
那如果简并半导体带隙中出现杂质带的话带隙,该怎么看呢?谢谢...

和普通的掺杂一样，找到对应原来的价带顶和导带底，可能需要通过轨道成分查看。
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24楼2015-06-13 21:02:53
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tsglss

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
24楼: Originally posted by KalaShayminS at 2015-06-13 21:02:53
和普通的掺杂一样，找到对应原来的价带顶和导带底，可能需要通过轨道成分查看。...

再请问，计算简并半导体时是否在计算（castep）设置界面中最低部的Metal 前面打勾设置吗？谢谢
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做好自己
25楼2015-06-13 21:29:23
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KalaShayminS

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
25楼: Originally posted by tsglss at 2015-06-13 21:29:23
再请问，计算简并半导体时是否在计算（castep）设置界面中最低部的Metal 前面打勾设置吗？谢谢...

一般保险起见是的。
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26楼2015-06-14 00:00:02
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对马拉二胡

至尊木虫 (职业作家)
我计算的一种碳同素异形体，没掺杂也得到了类似的能带图。具体该怎么分析空隙呢？http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=9049055
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相互学习，共同进步。
27楼2015-06-14 09:35:02
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infrared123
引用回帖:
19楼: Originally posted by zyqh at 2015-06-13 11:02:14
这个倒是，我原来想搞金融物理，去找了导师，试听了几个月课。。  计量经济学应该和数学物理联系更多， 特别是分子模拟里面的 蒙特卡洛原理。
不过，我最后还是搞物理材料了， 哈哈，你们那边跟我想象的还是有一定 ...

28楼2015-06-14 10:57:21
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chaiyong2013

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

掺杂过渡金属原子的话应该具有半金属性，因为我做的也是掺杂
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学无止境
29楼2015-06-15 11:35:11
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