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feirniulidan

银虫 (小有名气)

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[求助] 循环伏安测苯环上二取代基有机物，第一圈有一个峰，第二圈又没有了，的问题

有几个问题想弄清楚，给大家介绍下我做的情况，问题就附带了哈~~~~~~：
1、我用碳管修饰的玻碳电极循环伏安法测样品（注：样品为苯环上二取代基的有机物），第一圈有一个氧化峰出现，但第二圈和随后几圈这个峰都没有了，在另外一个电位处出现了一对氧化还原峰，我猜想这是两个取代基前后发生不可逆和可逆反应的结果，
问题1：但第一圈的峰为什么会没有了呢，难道是扫描第一圈就将吸附的反应物反应完了，碳管上没有可供反应的物质了，同时产物又吸附到碳管上阻止了本体溶液进一步的反应吗？
问题2：官能团的定位效应会阻碍第一圈的氧化反应吗？
2、测完样后，电极在空白底液中循环伏安扫描以除去吸附在碳管上的物质，清洗电极，此时，发生了跟第一个问题中同样的情况，即在第一圈出现一个氧化峰，比测样时信号更明显，随后消失，另外一电位处出现一对氧化还原峰，直至扫到这两个峰完全消失。
问题3：这个空白溶液清洗电极的原理是什么呢，是说明这个反应是吸附控制吗？
问题4：如果说测样时产物吸附在碳管上不会向本体溶液扩散，空白液清洗时为什么就可以把它洗掉呢？
问题5：另外，如果测样时发生不可逆氧化反应的基团在第一圈已经反应完了，为什么在清洗时第一圈还会有一个氧化峰出现呢（很明显还是有未反应的物质在碳管上）？
欢迎大家来交流哈，把各位高见都留下来，既能解决小妹的燃眉之急，又可以让大家增长知识，在这先谢过各位了！

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