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磁控溅射旋转靶消耗不均匀
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磁控溅射旋转靶消耗不均匀
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孪生磁控溅射靶在长久使用中发现某一点消耗比较快,这事为什么呢?
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1楼
2015-03-27 20:42:55
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8楼
:
Originally posted by
钦点木瓜
at 2015-03-30 09:37:57
你这个问题确实比较奇怪,不过应该和靶材没什么关系,主要是与设备有关。某一点被离子轰击消耗的快,也就是说这个点上,等离子密度可能会较大一点,但是也不是非常大,非常大的话离子也会相互碰撞抑制轰击的效率。事 ...
您好,感谢你的回复,对于磁场的影响,之前怀疑过,但是不同靶位上的同一点的消耗规律是一样的,消耗量因为工艺条件的关系,不好判定,而且采用的是连续式的传输,所以整个薄膜区域是不一定的,通过一定的检测比如颜色之类的检测,并未检测出什么问题,不知道有没有什么方法可以测试磁场分布之类的。
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10楼
2015-03-31 09:23:59
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应该是靶材的问题,靶材的纯度不对,或者是靶材的致密度不好。造成这些问题的原因都是厂家生产靶材的工艺有关。
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2楼
2015-03-29 00:09:07
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2楼
:
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a123266171
at 2015-03-29 00:09:07
应该是靶材的问题,靶材的纯度不对,或者是靶材的致密度不好。造成这些问题的原因都是厂家生产靶材的工艺有关。
孪生靶材同时使用,但是这种情况发生在对角线上,所以貌似跟靶材致密度关系不大吧,新靶刚使用没有特地选择某一边来装,都是随便选一头来装,但是换过几套靶来试,结果都是一样,所以这种可能性应该不大。
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3楼
2015-03-29 00:39:30
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旋转靶 也会出现消耗不匀的现象?
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4楼
2015-03-29 11:31:44
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