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haosonghappy铁杆木虫 (著名写手)
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[交流]
紫外光刻的问题
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各位好， 本人是器件制备方面的菜鸟，初步学习用紫外光刻机想干净硅片上做标记，利用掩膜版，使用正刻胶。我尝试了很多种曝光时间和显影时间，依然得不到很好的结果。如图所示，曝光部分的光刻胶不能很好的去除，请教各位大神和童鞋，到底是哪里出了问题，应该怎样改进实验参数？  uv40-20s2.jpg  uv60-20s2.jpg |
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babyoflion
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