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没理想的香蕉

新虫 (初入文坛)

[求助] PECVD生长SiO2薄膜出现褶皱 已有2人参与

用PECVD生长0.5um的SiO2薄膜,从炉子里面拿出来不久就出现这种褶皱,求助大神们知道是什么原因吗?
基底是n型高掺杂Si(500um)+Au(200nm),尺寸1.5*1.5cm

PECVD生长SiO2薄膜出现褶皱
IMG_2612.JPG
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没理想的香蕉

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
11楼: Originally posted by li2005235 at 2015-01-27 11:05:19
你这个情况我遇到过类似的,怎么可能退火呢,你拿出来就开裂啦,怎么有时间退火。除非有沉积系统和退火系统一体化的那种设备,估计国内很少有。这个问题的关键在于,你要分多次进行溅射。每次100nm,在停止溅射2min ...

你的意思是说长Au的时候多次溅射还是长SiO2的时候多次溅射?
12楼2015-04-17 14:32:08
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ddx-k

荣誉版主 (著名写手)

骑士II

【答案】应助回帖

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起皮了 这是膜层脱落了吧
2楼2015-01-21 16:03:12
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没理想的香蕉

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by ddx-k at 2015-01-21 16:03:12
起皮了 这是膜层脱落了吧

应该是脱落了,我想问一下是什么原因造成脱落的。因为昨天长了3批,第1批和第3批长的都没有问题,第二批长的就起皮了。
3楼2015-01-21 16:25:36
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caoxiafei

专家顾问 (著名写手)

研发工程师-Topcon/HJT电池

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
Au(200nm)层有应力,退火消除后,做PECVD
4楼2015-01-22 08:57:09
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