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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 光刻后去胶不均匀怎么解决
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丫丫^_^

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻后去胶不均匀怎么解决 已有9人参与

光刻后显影，去胶不均匀，可能是我的图案间距太小了，怎么解决啊
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1楼 2015-01-13 16:43:49
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丫丫^_^

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by exciting73 at 2015-01-13 20:57:51
光刻图案间距能小到什么程度？能不能把工艺条件列下？可站内短消息联系

间距2um，
用的稀释过的光刻胶。
前烘100℃，10min，
曝光45s，
后烘100℃，5min
显影30min，以前做尺寸比较大的掩模板，3min就能显很好
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9楼2015-01-14 09:33:26
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石银东

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:30:09
如果是杂质或者残屑的话，可以考虑用等离子清洗机进行超洁净清洗。
如果不是的话，优化光刻工艺的参数，或者改变光刻的方法。
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2楼2015-01-13 17:19:25
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:30:59
光刻图案间距能小到什么程度？能不能把工艺条件列下？可站内短消息联系
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3楼2015-01-13 20:57:51
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:34:58
是一直这样，还是你吧光刻图形间距减小才出现这种情况？一般在光刻胶的工艺线宽内的，都能显影干净。你可以试着增大曝光量，显影时间加长一点试一下。如果不行的话，有没有可能光刻胶使用时间太长，保存的不好，已经变质了，换新胶试一下。
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由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。
4楼2015-01-13 23:41:39
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