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丫丫^_^

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻后去胶不均匀怎么解决 已有9人参与

光刻后显影,去胶不均匀,可能是我的图案间距太小了,怎么解决啊
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丫丫^_^

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by zhoujun58 at 2015-01-14 01:11:41
光刻胶冲洗时间长或者冲洗溶液的浓度要大,时间过长或者浓度过大,图像也会没有

显影液没有稀释,显影了30分钟还是不行。
同样条件,尺寸大的掩模板做出来的效果很好。
7楼2015-01-14 09:28:49
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查看全部 25 个回答

石银东

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:30:09
如果是杂质或者残屑的话,可以考虑用等离子清洗机进行超洁净清洗。
如果不是的话,优化光刻工艺的参数,或者改变光刻的方法。
2楼2015-01-13 17:19:25
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:30:59
光刻图案间距能小到什么程度?能不能把工艺条件列下?可站内短消息联系
3楼2015-01-13 20:57:51
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:34:58
是一直这样,还是你吧光刻图形间距减小才出现这种情况?一般在光刻胶的工艺线宽内的,都能显影干净。你可以试着增大曝光量,显影时间加长一点试一下。如果不行的话,有没有可能光刻胶使用时间太长,保存的不好,已经变质了,换新胶试一下。
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
4楼2015-01-13 23:41:39
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