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丫丫^_^

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻后去胶不均匀怎么解决 已有9人参与

光刻后显影,去胶不均匀,可能是我的图案间距太小了,怎么解决啊
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鸿鹄北翔

金虫 (正式写手)

引用回帖:
9楼: Originally posted by 丫丫^_^ at 2015-01-14 09:33:26
间距2um,
用的稀释过的光刻胶。
前烘100℃,10min,
曝光45s,
后烘100℃,5min
显影30min,以前做尺寸比较大的掩模板,3min就能显很好...

显影时间好长哦
渴望交流碰出智慧的火花
13楼2015-01-14 12:08:24
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石银东

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:30:09
如果是杂质或者残屑的话,可以考虑用等离子清洗机进行超洁净清洗。
如果不是的话,优化光刻工艺的参数,或者改变光刻的方法。
2楼2015-01-13 17:19:25
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:30:59
光刻图案间距能小到什么程度?能不能把工艺条件列下?可站内短消息联系
3楼2015-01-13 20:57:51
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
丫丫^_^: 金币+1 2015-01-14 09:34:58
是一直这样,还是你吧光刻图形间距减小才出现这种情况?一般在光刻胶的工艺线宽内的,都能显影干净。你可以试着增大曝光量,显影时间加长一点试一下。如果不行的话,有没有可能光刻胶使用时间太长,保存的不好,已经变质了,换新胶试一下。
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
4楼2015-01-13 23:41:39
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