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zhaokeyang

铁虫 (小有名气)

[求助] 关于恒电位沉积钯,求助各位大神 已有1人参与

RT,在已镀镍的硅片上沉积钯,由于只有CHI604e,能选择的就只是恒电位沉积。电化小白,很多不懂,关于恒电位沉积的看了小木虫上很多说法,但是操作的时候还是出了问题,钯镀液较贵,不敢继续做了,求大神指点。钯镀液是买的,成分并不是非常清楚。
1、开路电位用两电极测的,工作电极和参比电极分别是镀镍硅片和饱和甘汞电极。测得开路电位-0.35。这样的操作不知道对不对。
2、恒电位沉积用的计时电流法,自己设置的参数如下:
初始电位:-0.35
高电位:-0.35
低电位:-0.6
Initial Step Polarity(这个我不知道具体应该翻译成什么): 负
阶梯数:2
脉冲宽度:200
采样时间:0.01
quiet time:2
绿色工作电极头子夹了镀镍硅片,红色对电极的头子夹了钛网。
运行后,钛网侧有大量气泡,镀镍硅片处貌似也有气泡(这个不太确定),电流值在400mA,慢慢降到350mA左右。
工作1min左右,镀镍硅片上连接的铜线直接腐蚀断了(事先铜线和镀镍硅片用银浆粘好,再用环氧树脂包裹住了接触的部分),然后镍层好像溶解掉了很多。钛网上有黑色物质附着(难不成我把镍溶解镀到钛网上了?)。
求教:这个设置或者是电极夹头是不是错了,需要怎么改正。万分感谢各路大神不吝赐教,十万火急啊。
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izhiqiang

新虫 (小有名气)

请问你的问题解决了吗
没有故事的男同学
6楼2015-06-25 15:57:20
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
CHI计时电流法哪是恒电位啊。。
2楼2015-01-08 08:44:29
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zhaokeyang

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by gxytju2008 at 2015-01-08 08:44:29
CHI计时电流法哪是恒电位啊。。

额,您好,我百度了很多都是这样说的啊。。。。难道错了。求指点。
3楼2015-01-08 15:47:15
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

引用回帖:
3楼: Originally posted by zhaokeyang at 2015-01-08 15:47:15
额,您好,我百度了很多都是这样说的啊。。。。难道错了。求指点。...

CHI计时电流是脉冲电压法的,你把说明书好好看看在做吧,baidu用来搞学术太不靠谱了
4楼2015-01-08 19:02:32
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