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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 理论交流 » 请问光催化反应中：禁带宽度与光生载流子复合几率
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peizx

铁杆木虫 (小有名气)
★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
liwentao2010: 金币+2, 谢谢回帖，辛苦 2014-12-17 09:01:21
tyronezhang: 金币+1, 从物理化学的角度讲，CdS导带的位置比TiO2更负，导带电子更容易与空穴发生复合 2014-12-17 09:07:51
没有依据。载流子一般易于在局域态的缺陷出复合。不考虑缺陷等杂志因素，激子束缚能越大越容易复合。你可以让作者证明这句话或者给出相关文献。
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31楼2014-12-16 21:49:26
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wangljhn
32楼2014-12-17 07:12:16
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智风慕誉
33楼2014-12-17 08:32:07
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zla7832685

金虫 (小有名气)

助研
★ ★
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tyronezhang: 金币+1, 不知道能否提供一下文献呢？最好能有理论方面的解释，而不是作者自己的观点。我也问过一些从事物理化学的老师，他们认为CdS导带位置比TiO2更负，光生电子在回传的时候受到阻力更小，所以更容易与空穴发生复合 2014-12-17 09:11:59
窄带隙复合几率高肯定有依据，文献也比较多吧，但我觉得这句话没什么好琢磨的，CdS主要的优点是带边位置好，缺点是光腐蚀，我自己也做CdS异质节的
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任重而道远
34楼2014-12-17 09:07:40
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991417617

新虫 (小有名气)
不对

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35楼2015-04-09 00:02:25
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991417617

新虫 (小有名气)
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36楼2015-04-09 00:02:31
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草青黄尘飞

禁虫
★
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37楼2020-08-19 21:11:46
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